T5型全谱直读光谱仪采用国际标准的设计和制造工艺技术，应用了日本HAMAMATUS公司***的CMOS线阵图像传感器，每块CMOS都可以单独设值采集火花个数，与国际光谱仪**技术同步，采用真空光室设计及全数字激发光源。这款CMOS光谱仪，既包含了CCD光谱仪的全谱特性，又具备PMT光谱仪对非金属元素的极低检出限，整机设计合理，操作简单易学，具有数据精准，长期稳定性好等优点。
技术参数
应用领域
冶金、铸造、机械、科研、商检、汽车、石化、造船、电力、航空、核电、金属和有色冶炼、加工和回收工业中的各种分析。
可检测基体
铁基、铜基、铝基、镍基、钴基、镁基、钛基、锌基、铅基、锡基、银基。
光学系统
帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围
140~680nm
光栅焦距
401mm
探 测 器
高性能CMOS阵列/CCD阵列传感器
光源类型
数字光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率
100-1000Hz
放电电流
**500A
工作电源
AC220V 50/60Hz 1000W
仪器尺寸
780*565*360mm
仪器重量
约78kg
检测时间
依据样品类型而定，一般20S左右
电极类型
钨材喷射电极
分析间隙
4mm
其他功能
真空，温度，软件自动控制压力，通讯监测
仪器主要特点2主要特点
高性能光学系统
光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室，实现光路直通，有效的降低光路损耗；
采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、B、As、N以及各种金属元素含量；
测定结果精准，重复性及长期稳定性**。
自动光路校准
自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；
仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。
插拔式透镜设计
真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。
真空室一体化
独特的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空时间仅普通光谱仪的1/2；
真空室一体化设计及高精密的加工，使真空保持的更加持久。
真空防返油技术
多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离
中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。
开放式激发台
开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；
配合使用小样品夹具，线材最低分析可达到1.5mm。
喷射电极技术
采用国际***的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度
配上独特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。
集成气路模块
气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。
数字化激发光源
数字激发光源，采用国际最为先进的等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品；
全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体超高分辨率和高稳定率输出；
可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。
高速数据采集
仪器采用高性能CMOS检测元件，具有每块CMOS单独超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。
以太数据传输
计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机完全外置，方便升级和更换；
可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。
预制工作曲线
备有不同材质和牌号的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，方便安装调试和及时投入生产；
根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动选择**测试条件；
技术规格中附有分析范围（并可根据用户提供标样免费绘制或延长工作曲线）。
分析速度快
分析速度快，仅需20秒即可完成一次分析；
针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用最短时间达到**的分析效果。
